
一块 G12R 电池切成四片,多出三条边。行业里量到的切损在 0.2%/刀上下。但 Solar Energy 上这篇论文说:同样一刀,切在结上和切在空档里,损失能差一半——省下来的那一半,不用加设备。
先说个我翻这篇论文时的第一反应。
它讨论的问题实在不像个顶刊问题:一块电池,激光切一刀,刀口该从哪儿过。
论文八月发在 Solar Energy,作者名单里有 UNSW 的 Martin Green 和 Renate Egan,也有国内在跑 TBC 量产的一道新能,宋登元在列。通讯作者是 UNSW 的 Pei-Chieh Hsiao。这种组合一般不做纯理论,它一定在回答产线上的某个具体麻烦。
麻烦就是多分片。
今年四分片在量产线上爬坡,三条切割线下来,一块完整的电池变成四小片,也变出三条全新的硅边。这三条边上没有氧化铝,没有氮化硅,什么都没有,只有刚被激光撕开的悬挂键。

行业里对这笔账有个大致量级:切一刀,效率损失 0.2 个点上下。
但这个数本身就不太统一。同样是切一刀,HJT 最狠,TOPCon 居中,BC 最轻——这是材料体系那本账,一道新能跟河北大学那组研究算过,机理落在氢。
切割损失其实有三本账:材料体系一本,怎么切一本,切在哪儿一本。
这篇论文算的是第三本。但它算得很细,细到顺手把另外两本的账本也翻给你看了。
先看"切几刀"这本。
论文里有个量,叫 AR——切边总长度,除以这一小片的面积。
G12R 是 182×210 毫米,我拿计算器核了一遍:半片切一刀,AR 是 0.095;四分片两条切边都算上,AR 是 0.381。
四倍。不是"差不多四倍",是把公式写出来一按,正好 4.00 的四倍。
道理不复杂:割得越碎,同样一块面积上分摊到的伤口就越长。这笔税按伤口长度走,不按刀数走。

所以那个"0.2 个点每刀"的经验值,其实是个粗略平均。论文的模拟给了更硬的规律:同一种切法下,效率损失跟 AR 成正比。
这也顺带解释了一件事——为什么到了四分片,边缘钝化从"可选"变成"必选"。不是大家突然讲究了,是账变了。

AR 由片型唯一决定:同样面积上,四分片分摊到的伤口长度是半片的 4 倍(数值为 G12R 复算)
那这一刀,切在哪儿最便宜?
TBC 的背面跟 TOPCon 长得不一样。它是两种指头交替排的:一片 p 型多晶硅做发射极,一片 n 型多晶硅做背场,中间隔着空档,像梳子对插。
于是刀口有了三种走法。
切过发射极,等于把 p-n 结横着剖开,切口上直接暴露出一段耗尽区。论文对这种情况用的不是"表面复合速度",而是一个边缘二极管电流,每厘米 19 纳安,理想因子取 2。这个数来自 Fell 那组人跨好几种电池结构验证过的结果,代表的是耗尽区里电子空穴同时大量存在、复合起来毫不费力的状态。
切过背场,或者切在空档里,情况就不同了。这条边暴露的是同型硅,没有结,复合只能靠载流子自己扩散过去。
这里有个细节值得停一下。
论文在模拟切口表面复合速度时,把取值从 10 一路调到 10 厘米每秒,效率只动了不到 0.01 个百分点。
意思很直白:切口表面"烂到什么程度",其实不太敏感。真正卡脖子的是载流子能不能扩散到那儿。供货跟不上,需求再旺也没用。
可一旦切到结上,规则就换了。耗尽区里电子和空穴都在现场,不用等扩散,直接复合。
所以"切在哪儿"的价值,不在切口质量,在有没有把结切出来。
结果就是论文那句核心结论:切在空档区,效率损失大约只有切发射极的一半。
顺带一个附加好处:金属只长在发射极和背场上,切在空档里,激光根本碰不到金属层。切穿金属是另一类麻烦,这篇论文的电极设计本来就是按"不切穿"来做的。

同样一刀,切过发射极会剖开耗尽区;切在空档里只暴露同型硅,而且碰不到金属层
还有个细节,我觉得比结论本身更有意思。
论文画了切口附近的载流子浓度分布。切口边上浓度掉下去,但往里走,头三个指头之内,就恢复成跟掺杂图形一致的周期性分布了。按 0.9 毫米的指间距算,也就两三毫米的事。
也就是说,伤口的直接影响范围,窄得超出想象。
但它同时拉低了整个器件体内的平均载流子浓度——gap 最好,背场次之,发射极最差。
一个边缘上的局部伤口,凭什么拉低整片的平均浓度?
因为边缘是复合最快的地方,它像个抽水机,把周围的载流子往那边吸。被吸走的不只是贴着边的那些,还有本该流向电极的。
所以切损不能按"边上一圈"来估。它是从边上抽走的,抽的是全片的存货。
不过这里有个坑,得单独拎出来说。
如果只看短路电流,你会得出完全相反的结论。
论文的模拟里,切发射极的 Jsc 损失反而最小——因为发射极就在切口边上,内建电场一拉,光生载流子几乎百分之百被漂移收集走。反倒是切在空档里的那片,载流子得靠扩散慢慢挪过去,Jsc 掉得更多。
所以:Isc 好看,不代表切口干净。
真正能看出问题的是填充因子那条线。论文说得很清楚,边缘复合主要打在 pFF 和 FF 上,这两项的相对跌幅远大于 Voc 和 Jsc。另一个更灵敏的指纹是最大功率点的理想因子,它随 AR 线性往上涨,切发射极的那组涨得最凶。
翻译成产线动作就一句话:切完抽测,先看 pFF 和 FF,别被 Isc 哄过去。
聊到这儿,得回头补一个变量——怎么切。
论文自己没模拟这一项,但它汇总了别人的实测值,表 1 那几行值得单独看一眼。
同一篇文献里对 SHJ 的对比,用激光划槽加机械裂片切,边缘二极管电流 115 纳安每厘米。换成热激光分离,7.77。
差 15 倍。同一组片子,只换了切法。
PERC 用金刚石划片是 13,跨结构取一个通用稳健值,19——论文给 TBC 切发射极用的就是这 19。
这就说明一件事:切口的物理损伤程度,是能被切法改变的。机械裂片是硬掰开的,裂口粗糙、带微裂纹;热激光分离靠热应力让裂纹自己走,断面光滑。
换句话说,19 这个数不是天花板,是当时那个切法给出的地板。论文没做这个替换实验,但表里的数已经把话说了一半——切法换了,这个数本身就有往下走的空间。
再说精度,也就是切得准不准。
那片空档,是不是越宽越好?
不是。
太窄,切口离重掺杂区太近,复合压不住;太宽,空档区本身不收集载流子,白白让出去的发电面积又找不回来。两头都亏,中间有个拐点。
论文把单侧空档宽度从 0.01 毫米扫到 0.49 毫米,不管半片、三分片还是四分片,最优点都落在同一个位置:切割后单侧剩 0.3 毫米。
双切边的三分片和四分片,要两边各留 0.3 毫米,也就是在设计阶段给切割线预留一条 0.6 毫米宽的不掺杂带。
激光定位精度,设备商给的是正负 0.025 毫米。相对 0.3 毫米,余量 12 倍。但论文提醒了一件容易被忽略的事:两条切边得各管各的。一边切歪了,另一边留得再宽也补不回来。
非理想切割带来的额外损失,半片 0.03 个点、三分片 0.045 个点、四分片 0.058 个点——切得越碎,这个"手抖税"也越贵。

空档不是越宽越好:太窄压不住复合,太宽收集不到载流子,净损失在单侧 0.3 毫米处最低
这里得插一句产业链上的事,不然这条 0.6 毫米没法落地。
以前电池厂交整片,切几刀、切在哪儿,是组件端自己的事。现在要预留 0.3 毫米的空档,电池端就必须提前知道:这片将来切三分还是四分,切在哪个坐标,精度多少。
切割位置从组件端的自由,变成了电池端的设计输入。
这就多了一个新接口,也多了一个新风险——电池厂按三分片留的版图,组件厂改走四分片,那条空档就白留了,得回头改图形。柔性是有代价的,只不过这个代价落在设计阶段,不落在设备上。
还有一段,我觉得比效率数字更值得组件端的人看一眼。
论文把光照从 1 个太阳降到 0.1 个太阳,切割片的效率损失明显放大。更具体的一个数:因为光生空穴要横向扩散到复合活性很强的切口,这部分复合损失,在半片里占 10%,到四分片里升到 29%。
原因论文也解释了:这个 TBC 的体电阻率 14 欧姆厘米,够高,所以哪怕光照降到 0.1 个太阳,器件还在高注入区,损失压不下去。
组件不会永远在 1000 瓦每平米的标准条件下工作。清晨、傍晚、阴天、斜入射,全是低辐照。
四分片在 STC 上多出来的那部分功率,到了真实屋顶上,是要打折的。打多少折,跟切口做得多干净直接相关。
说到这儿,得把这篇文章和"边缘钝化"这四个字对上。
现在行业里讲得多的是补。切完了,在切口上镀一层氧化铝,或者用激光把损伤区隔离掉,把复合中心盖住。这道工序不便宜,四分片尤其耗设备。
这篇论文走的是另一个方向——不是补,是避。刀口从一开始就别落在结上,让切口天生就没有那么强的复合能力。
两条路不冲突。避掉的那一半,本来就不需要补;剩下那一半,还是得靠钝化。论文自己也是这么收尾的:不额外加钝化,空档切割就能把损失砍一半;再加上边缘钝化,"无损切割"才有机会。

回到产线,这篇论文其实只给了三个旋钮,都不在工艺段。
第一个,版图。在预定的切割线两侧,各留 0.3 毫米的不掺杂带。这一步不走工艺、不加设备、不进流程卡,只在背面图形设计时改一笔。
第二个,精度。切割位置波动要压住,而且两条边独立管控。一边超差不能靠另一边找补。
第三个,判据。把 pFF 和理想因子放进抽测项,别只盯 Isc。
至于"怎么切"那个旋钮,论文只给了提醒,没给方案——但表 1 已经说明了它的分量:换一种切法,边缘二极管电流能从三位数掉到个位数。这笔账值不值得算,是另一个话题。
顺着这个逻辑,我想说一个可能被低估的判断。
TOPCon 切哪一刀都躲不开。它的 p-n 结在正面整面铺开,激光自上而下切透,切口必然扫过结区。所以你只能在"切完之后怎么补"上想办法——ALD 侧镀、激光隔离钝化、钝化液、PECVD 叠层,都是补。
BC 不一样。它的结在背面,而且是图形化的,指头之间有天然的空档。这意味着它多了一个别人没有的自由度:可以不切在结上。
这个优势跟效率纪录没关系,跟背面图形长什么样有关系。多分片这条路走得越深,这个自由度的价值就越高。它不省工艺,它省的是"补"的那道工序。
当然得说清楚,BC 现在还是少数派。2025 年 TBC 组件在全球市场的份额大概 6.7%,离主流还有距离。这条自由度能兑现多少,得看它在多分片这条路上能跑多远。
话得说回来,这篇论文有几处必须打折听。
它是纯模拟,不是实测。切口表面复合速度取 10、边缘二极管电流取 19,都是文献值,不是这条产线切出来的实测值。作者自己在方法部分交代了这两个数的出处。
它给出的最坏情形——四分片双切边、刀口扫过发射极——效率损失超过 1 个百分点;同样条件切在空档里,只有一半上下。而这个量级对应的是"切口完全没有钝化"的极端假设。产线上量到的净切损只有 0.2%/刀 上下,这两者的差,就落在"切完之后补了多少"这件事上。别拿论文里的数字直接对标自己产线的功率表。
还有一条,论文自己写明了:空档切割是把"必损"砍掉一半,不是归零。真正的无损切割,原文的说法是"potentially achievable with the assistance of edge passivation"——还是得靠钝化配合。
最后,那条 0.6 毫米的空白带不是白来的。它吃掉的是发电面积,落到一片四分之一片上大约 0.6%。这笔账论文的模拟已经算进去了,0.3 毫米之所以是最优点,就是因为它把面积损失和复合损失一起称过了。
所以这篇论文真正回答的,不是"切损有多大",也不是"钝化能做到多好"。
它回答的是:切损里,哪一部分根本不该发生。
该补的那部分,交给钝化。不该发生的那部分,从版图上抹掉。
多分片这一轮,大家在比谁切得更细。切得细是电气账,P 等于 I 平方 R,谁都会算。切在哪儿是复合账,这本账以前没人细算过——现在有人把公式摆出来了。
最后一个问题,想听听你的判断:
四分片这条路上,你觉得先卡住的是切割良率,还是边缘钝化那笔设备投入?
评论区聊聊。
参考文献:Hsiao P-C, Zhang K, Zhou Z, Jiang JY, Li L, Dai J, Ji Y, Li J, Song D, Egan R, Green M. Simulation of gap-region cutting for suppressing edge recombination losses in tunnel oxide passivated back-contact solar cells. Solar Energy, 2026, 317: 115017. DOI: 10.1016/j.solener.2026.115017(CC BY 开放获取)
原文标题 : Martin 团队:多分片除了边缘钝化,还有一条千万“别切在结上”
(来源:维科网)






