?光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。 自1961年第一台光刻机诞生以来，光刻机经历了接触式→接近式→投影式的发展路线，如今以投影式中的步进扫描式光刻机为主流

近日，来自冲绳科学技术大学院大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授提出了一项革命性的极紫外（EUV）光刻技术，该技术不仅超越了现有半导体制造的界限，更预示着行业未来的新篇章。

以光为刀的光刻技术 引文 光的出现以及每一次发展都是人类社会的一大进步：地球上出现的

对于半导体行业而言，光刻技术和设备发挥着基础性作用，是必不可少的。 ?所谓光刻，就是将设计好的图形从掩模版转印到晶圆表面的光刻胶上所使用的技术。光刻技术最先应用于印刷工业，之后长期用于制造印刷电路板（PCB），1950年代，随着半导体技术的兴起，光刻技术开始用于制造晶体管和集成电路（IC）